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2019年12月18日 (水)

【個人メモ】JETRO/<中国>広東省、自主イノベーション促進条例を改正(2019年12月16日)

□知財に関し、「JETRO」(日本貿易振興機構)発、
 次のニュースが掲載されていた。
 ●JETRO/知的財産権保護
 ●JETRO/ビジネス短信
  <一部抜粋>
  ・<中国>2019年12月16日
   広東省、自主イノベーション促進条例を改正(中国)
   <一部抜粋1>「広州発、2019年12月16日」
   <一部抜粋2>
【図1】 「表 広東省における科学技術実験室の建設状況

20191218_jetro

<出典>「JETRO」サイト、広東省、
    自主イノベーション促進条例を改正(中国)
 (当該ページのURL)
https://www.jetro.go.jp/biznews/2019/12
/063c9953f76ed170.html
 ●JETRO/知的財産権保護/知財ニュース
  <一部抜粋>
  ・<韓国>2019年12月12日
   特許庁、ドミニカ共和国に心温かい寄付事業を実施
   <一部抜粋>「2019年12月12日、出所: 韓国特許庁」
  ・<韓国>2019年12月12日
   特許庁, 特許ビッグデータを活用し、
   日本に進出している韓国企業の技術自立を率いる
   <一部抜粋>「2019年12月12日、出所: 韓国特許庁」
  ・<韓国>2019年12月12日
   流行に敏感なファッション製品、デザイン登録もスピーディーに!
   <一部抜粋1>「2019年12月12日、出所: 韓国特許庁」
   <一部抜粋2> *文字着色。

     「現在のデザイン一部審査登録出願は出願書に
     特別な問題がなければ出願から登録まで約60日がかかるが、
     これからは審査官増員および制度改善を行い、
     10日以内に登録できるようになる。
  ・<韓国、米国、中国、日本および欧州の5ヵ国>2019年12月12日
   デザイン制度先進五庁(ID5)、未来の発展方向に対する議論始める
  ・<韓国>2019年12月12日
   オンラインで無断流通されるソフトウェア、特許で遮断する
   <一部抜粋>「2019年12月12日、出所: 韓国特許庁」
<サイト内>
 ●<前回>2019年12月12日 (木)、【個人メモ】JETRO/
  <インド>インド特許庁の特許実務及び手続の手引(2019)改正
  (2019年12月9日)

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(以上)

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